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후막 전극 열화 억제 기술 개발 기계연구원 우규희 책임연구원(왼쪽)·권신 책임연구원(기계연 제공.재판매 및 DB금지) /뉴스1 
(대전ㆍ충남=뉴스1) 양상인 기자 = 한국기계연구원은 우규희·권신 책임연구원 공동 연구팀이 플래시 공정을 활용해 후막 전극의 열화를 억제하는 기술을 개발했다고 26일 밝혔다.
후막 전극은 두꺼우면 저장 용량이 증가하지만 리튬 이온과 전자의 이동이 어려워 충·방전 속도가 느려지고 수명이 단축된다.
연구팀은 후막 전극에 1ms(1밀리초·1000 분의 1초) 동안 플래시를 조사해 전극 구조를 변화시키는 방식으로 리튬 이온과 전자의 이동성을 높여 전해질 침투성을 개선하는 데 성공했다.
특히 표면 광열 반응을 활용해 전극 전체가 고온에 노출되는 것을 막아 내부 바인더 손상을 줄이고 집전체 산화 같은 열 손상도 방지할 수 있도록 했다.
우 책임연구원은 “플래시 공정은 기존 배터리 제조 방식에 쉽게 적용할 수 있는 후처리 기술”이라며 “국내 기업이 활용할 수 있도록 기술을 더욱 발전시키고 검증을 지속해 나가겠다”고 말했다.
이번 연구는 국제 학술지 '스몰 메소드'에 표지 논문으로 게재됐다.
